2023年8月14-16日，第十六屆全國(guó)新型炭材料學(xué)術(shù)研討會(huì)在山西太原召開。本次研討會(huì)由中國(guó)科學(xué)院山西煤炭化學(xué)研究所、山西省科學(xué)技術(shù)協(xié)會(huì)主辦，共有400余名來自全國(guó)高校、科研院和企業(yè)代表參會(huì)。該會(huì)議是中國(guó)碳材料學(xué)科領(lǐng)域具有代表性的學(xué)術(shù)交流會(huì)議，每?jī)赡昱e辦一次。

會(huì)議以“炭纖維、石墨和碳基復(fù)合材料”、“納米炭、多孔炭和炭材料結(jié)構(gòu)表征”、“炭材料在電能存儲(chǔ)中的應(yīng)用及結(jié)構(gòu)調(diào)控”為主題設(shè)立三個(gè)分會(huì)場(chǎng)，共匯編了研究論文摘要212篇，薈萃了我國(guó)新型炭材料研究與開發(fā)的最新研究成果。

頂立科技董事長(zhǎng)戴煜博士受邀參會(huì)，并作題為《第三代半導(dǎo)體用“四高兩涂”碳基材料的技術(shù)現(xiàn)狀及展望》學(xué)術(shù)報(bào)告。報(bào)告闡述了國(guó)內(nèi)外第三代半導(dǎo)體材料的應(yīng)用現(xiàn)狀、國(guó)產(chǎn)碳化硅單晶與國(guó)外差距的原因分析，以及頂立科技在“四高兩涂”碳基材料（即高純碳粉、高純碳化硅粉、高純石墨、高純硬氈、碳化硅涂層、碳化鉭涂層） 研究方面取得的進(jìn)展情況。

頂立科技自主研制的超高溫純化設(shè)備，采用獨(dú)特的復(fù)合高溫?zé)峄瘜W(xué)提純工藝，突破了高純碳粉微量雜質(zhì)去除技術(shù)，產(chǎn)品純度可達(dá)6N以上；自主研制的化學(xué)氣相沉積裝備，突破了TaC涂層制備關(guān)鍵技術(shù)，其產(chǎn)品性能達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平，實(shí)現(xiàn)了第三代半導(dǎo)體用關(guān)鍵材料與裝備的自主可控與產(chǎn)業(yè)化。